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陶瓷基片爐具有高穩定性、高人性化、低維護的特點,采用非接觸式高溫測量、真空系統過濾保護、獨特尾氣處理設計。主要用于氮化硅/氮化鋁流延基片等先進材料進行真空,脫氣、加壓致密化等,廣泛應用于航天航空、電子電器半導體等領域。

產品介紹

陶瓷基片爐具有高穩定性、高人性化、低維護的特點,采用非接觸式高溫測量、真空系統過濾保護、獨特尾氣處理設計。主要用于氮化硅/氮化鋁流延基片等先進材料進行真空,脫氣、加壓致密化等,廣泛應用于航天航空、電子電器半導體等領域。

產品參數
裝料空間(W*H*L) 600*600*1400
溫度均勻性 ≤±4℃
最高工作溫度 2200℃
最高工作壓力 2MPa
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